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    • IQ Aligner NT自動掩模對準系統

      ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件,新的晶圓處理硬件,可實現全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優化的工具軟件,從而使生產率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對準精度提高了2倍。該系統超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應用的蕞苛刻要求,同時與競爭系統相比,擁有成本降低了30%。

      更新時間:2024-03-19
      型號:IQ Aligner NT
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:495
    • EVG6200 NT掩模對準光刻系統

      EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

      更新時間:2024-03-19
      型號:
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:2271
    • IQ Aligner 自動掩模對準系統

      IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

      更新時間:2024-03-19
      型號:
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:1576
    • EVG610EVG單面/雙面掩模對準光刻機

      EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發應用。

      更新時間:2024-03-19
      型號:EVG610
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:6363
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