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    自動化高速薄膜厚度測量儀

    簡要描述:顯示器薄膜測量儀*的光學模塊可容納所有光學部件:分光計、復合光源(壽命10000小時)、高精度反射探頭。因此,在準確性、重現性和長期穩定性方面保證了優異的性能。

    • 產品型號:FR-Scanner
    • 廠商性質:代理商
    • 產品資料:查看pdf文檔
    • 更新時間:2024-03-19
    • 訪  問  量: 6041

    詳細介紹

      Thetametrisis顯示器薄膜測量儀 FR-Scanner 是一種緊湊的臺式工具,適用于自動測繪晶圓片上的涂層厚度。FR-Scanner 可以快速和準確測量薄膜特性:厚度,折射率,均勻性,顏色等。真空吸盤可應用于任何直徑或其他形狀的樣片。
      1、應用
      半導體生產制造:(光刻膠, 電介質,光子多層結構, poly-Si, Si, DLC, )
      光伏產業
      液晶顯示
      光學薄膜
      聚合物
      微機電系統和微光機電系統
      基底:透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明
      Thetametrisis顯示器薄膜測量儀*的光學模塊可容納所有光學部件:分光計、復合光源(壽命10000小時)、高精度反射探頭。因此,在準確性、重現性和長期穩定性方面保證了優異的性能。
      Thetametrisis顯示器薄膜測量儀 FR-Scanner 通過高速旋轉平臺和光學探頭直線移動掃描晶圓片(極坐標掃描)。通過這種方法,可以在很短的時間內記錄具有高重復性的精確反射率數據,這使得FR-Scanner 成為測繪晶圓涂層或其他基片涂層的理想工具。
      2、特征
      單點分析(不需要預估值)
      動態測量
      包括光學參數(n和k,顏色) o 為演示保存視頻
      600 多種的預存材料
      離線分析
      免費軟件更新

      3、性能參數


      4、測量原理
      白光反射光譜(WLRS)是測量從單層薄膜或多層堆疊結構的一個波長范圍內光的反射量,入射光垂直于樣品表面,由于界面干涉產生的反射光譜被用來計算確定(透明或部分透明或*反射基板上)的薄膜的厚度、光學常數(n和k)等。


      1、樣片平臺可容納任意形狀的樣品。450mm平臺也可根據要求提供。真正的X-Y掃描也可能通過定制配置;
      2、硅基板上的單層SiO2薄膜的厚度值。對于其他薄膜/基質,這些值可能略有不同;
      3、15天平均值的標準差平均值。樣品:硅晶片上1微米的二氧化硅;
      4、2 X (超過15天的日平均值的標準偏差)。樣品:硅晶片上1微米的二氧化硅;
      5、測量結果與校準的光譜橢偏儀比較;
      6、根據材料;
      7、測量以8 "晶圓為基準。如有特殊要求,掃描速度可超過1000次測量/每分鐘;
      如果您想要了解更多關于Thetametrisis膜厚儀的產品信息,請聯系我們岱美儀器。



     

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