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    Thetametrisis膜厚測量儀

    簡要描述:Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

    • 產品型號:FR-pRo
    • 廠商性質:代理商
    • 產品資料:查看pdf文檔
    • 更新時間:2024-04-18
    • 訪  問  量: 5759

    詳細介紹

    Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述:

    FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

    FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

    FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

    比如:

    吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…

    Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用:

    1、大學&研究實驗室

    2、半導體行業

    3、高分子聚合物&阻抗表征

    4、電介質特性表征

    5、生物醫學

    6、硬涂層,陽極氧化,金屬零件加工

    7、光學鍍膜

    8、非金屬薄膜等等…

    FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

    此外,還有各種各種配件,比如:

    1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架;

    2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;

    3.用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒;

    4.漫反射和全反射積分球。

    通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

    Specificatins 規格:

    Model

    UV/Vis

    UV/NIR -EXT

    UV/NIR-HR

    D UV/NIR

    VIS/NIR

    D Vis/NIR

    NIR

    光譜范圍  (nm)

    200 – 850

    200 –1020

    200-1100

    200 – 1700

    370 –1020

    370 – 1700

    900 – 1700

    像素

    3648

    3648

    3648

    3648 & 512

    3648

    3648 & 512

    512

    厚度范圍

    1nm – 80um

    3nm – 80um

    1nm – 120um

    1nm – 250um

    12nm – 100um

    12nm – 250um

    50nm – 250um

    測量n*k 蕞小范圍

    50nm

    50nm

    50nm

    50nm

    100nm

    100nm

    500nm

    準確度*,**

    1nm or 0.2%

    1nm or 0.2%

    1nm or 0.2%

    1nm or 0.2%

    1nm or 0.2%

    2nm or 0.2%

    3nm or 0.4%

    精度*,**

    0.02nm

    0.02nm

    0.02nm

    0.02nm

    0.02nm

    0.02nm

    0.1nm

    穩定性*,**

    0.05nm

    0.05nm

    0.05nm

    0.05nm

    0.05nm

    0.05nm

    0.15nm

    光源

    氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

    鎢鹵素燈(內置)

    光斑 (直徑)

     

     

    350um (更小光斑可根據要求選配)

     

     

    材料數據庫

     

     

     

    > 600 種不同材料

     

     

     

    Accessries 配件:

    電腦

    19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

    聚焦模塊

    光學聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

    薄膜/比色皿容器

    在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量

    接觸式探頭

    用于涂層厚度測量和光學測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

    顯微鏡

    用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量

    Scanner  (motorized)

    帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量

    積分球

    用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

    手動 X-Y 樣品臺

    測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺

    加熱模塊

    嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

    液體模塊

    聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,

    用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

    流通池

    液體中吸光率、微量熒光測量






    工作原理:

    白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

    * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

     

     

     

     

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