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    • IQ Aligner NT自動掩模對準系統

      ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件,新的晶圓處理硬件,可實現全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優化的工具軟件,從而使生產率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對準精度提高了2倍。該系統超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應用的蕞苛刻要求,同時與競爭系統相比,擁有成本降低了30%。

      更新時間:2024-03-19
      型號:IQ Aligner NT
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:495
    • EVG620 NT-掩模對準光刻機系統

      EVG620 NT-掩模對準光刻機系統EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

      更新時間:2024-03-19
      型號:
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:4193
    • EVG610-單面、雙面光刻系統

      EVG610-單面、雙面光刻系統 EVG光刻機EVG®610是一款緊湊型多功能研發系統,可處理零碎片和大200 mm的晶圓。

      更新時間:2024-03-19
      型號:
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:1622
    • EVG6200 NT掩模對準光刻系統

      EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

      更新時間:2024-03-19
      型號:
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:2271
    • IQ Aligner 自動掩模對準系統

      IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

      更新時間:2024-03-19
      型號:
      廠商性質:代理商
      瀏覽量:1576
    • EVG101光刻膠勻膠機

      研發和小規模生產中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機在單室設計上可以滿足研發工作,與EVG的自動化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。

      更新時間:2024-04-18
      型號:EVG101
      廠商性質:代理商
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